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圖片3

云龍-LAY-500G ALD

單次處理500克微納顆粒的原子層沉積包覆設備
利用流化床分散設計

云龍-LAY-500G ALD Technical Specifications

系統配置

 

1.尺寸 (長(cháng) x 寬 x 高)

單體 1200mm x 1200mm x 1850mm

包括

2.重量 (KG)

單體 267Kg

 

3.電源

單體 14kW/37A/380VAC

 

4.基礎系統功能及配置

微納顆粒的原子層沉積包覆設備

 

基本功能

可在微納顆粒樣品上實(shí)現 ALD膜層 生長(cháng)工藝

 

樣品重量

克級別粉末,優(yōu)化工藝一般推薦 500g 以?xún)?/span>

 

工藝溫度

工藝溫度范圍從室溫到 300°C

 

工藝配件

配備 ALD 工藝套件,具有高溫密封和優(yōu)化氣流設計

 

5.特色

內外腔體設計, 可自動(dòng)運行 ALD 靜態(tài)及動(dòng)態(tài)模式

包括

 

專(zhuān)利設計的可拆卸式流化反應釜,實(shí)現工藝中粉體的均勻分散,易于清洗及操作, 保證工藝重復性

包括

 

最高工藝溫度 300 °C,為多膜系研發(fā)開(kāi)發(fā)設計

包括

 

多閥組設計,實(shí)現最佳前驅體輸送控制, 保證可重復性和易于維護

包括

 

共 4 路固體液體源, 2 路反應氣體,專(zhuān)有的 ALD 源及 ALD 高溫全自動(dòng) 自清潔閥組

包括

 

多道安全控制, 可編輯配方,完整的數據記錄和易于使用的 GUI 界面

包括

 

多種定制化選項

可選

產(chǎn)品詳情

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